Webって，新たな研磨材料に関する学術分野を創成しようとするところが本研究の学術的な特色である。本研究成果 によって，化学研磨特性に関する学術的な体系化を実現するとともに，高度cmp材料に関する学術分野を創成す る。 WebJul 6, 2016 · スウェード系研磨パッドを用いた難加工基板 cmp の研磨メカニズム解明に関する研究 708 精密工学会誌/Journal of the Japan Society for Precision Engineering

酸化セリウム研磨剤はなぜガラス研磨に使われるのか

WebApr 14, 2024 · 本講演では、半導体サプライチェーンの一つであるCMPプロセスの中でも、特に研磨パッドおよびパッドコンディショニング技術に着目し、CMPプロセスを安定化させるための必要な要素技術や、その要素技術を基にした更なる技術の高度化を図る取り組み … CMPは「研磨剤の入った薬品と砥石でウェーハの表面を磨き、平坦化する技術」です。 薬品による化学的 (Chemical)研磨作用と、砥石による機械的 (Mechanical)研磨作用を用いることから、化学機械研磨 (CMP:Chemical Mechanical Polishing)と呼ばれています。 ウェーハをキャリアと呼ばれる部材で保持し、 … See more 薬品による化学的(Chemical)研磨作用と、砥石による機械的(Mechanical)研磨作用を用いることから、化学機械研磨(CMP:Chemical Mechanical Polishing)と呼ばれています。 … See more CMPでは化学薬品と砥粒を含むスラリーで、化学的作用と機械的作用を用いながら研磨します。 1. 化学的作用(ケミカル) 2. 機械的作用(メカニカル) 化学的作用によってウェーハ表面を変質させることで、研磨剤単体で研磨す … See more CMPの原理をもう少し詳しく見ていきましょう。ここではCeO2砥粒によるSiO2の研磨を例にします。 SiO2の研磨はCeO2砥粒による化 … See more matthias osterwold

国立情報学研究所 / National Institute of Informatics

Web国立情報学研究所 / National Institute of Informatics Web化学的機械的に研磨する手法のことをCMPといいますが、酸化セリウムを使ったガラスの研磨はこのCMPに近い加工です。 研磨は高精度の世界になればなるほど、機械的な力だけで削るだけでは限界が出てきます。 WebCMPは、日本語では化学的機械研磨に相当する。英語表現ではChemical Mechanical Polishing buld Mechano-chemical polishing と表記されていることも多い。 ... ことに伴って使用する研磨スラリーの種類が違 うことくらいで、加工に用いる装置、研磨メカニズムなどは基本的 ... matthias owerrin